Принцип лазерной очистки основан на термическом, фотохимическом и ударно-волновом эффектах, возникающих при взаимодействии лазера с веществом. При воздействии лазерного луча на поверхность материала загрязняющие вещества поглощают энергию лазера и быстро нагреваются, расширяются, испаряются или отслаиваются, тем самым обеспечивая очистку.