010203
Nanosekundinis tikslumo lazerinis suvirinimo aparatas
Produkto apra?ymas
Nanosekundinio suvirinimo aparatas yra ?renginys, kuris suvirinimui naudoja nanosekundini? impuls? lazerius. Palyginti su tradiciniais lazerinio suvirinimo aparatais, nanosekundinio suvirinimo aparatai turi trumpesn? impuls? plot? ir didesn? maksimali? gali?, tod?l suvirinimo procesai yra greitesni ir tikslesni. Nanosekundinio suvirinimo aparatas tinka suvirinti ?vairias metalines med?iagas, ?skaitant nerūdijant? plien?, aliuminio lydinius, vario lydinius, titano lydinius ir kt. Jis gali būti pla?iai taikomas tokiose srityse kaip automobili? gamyba, elektronika ir tiksli?j? ma?in? gamyba.
Nanosekundinio suvirinimo aparato veikimo principas – per labai trump? laik? med?iaga ?kaitinama iki i?lydytos arba gar? būsenos naudojant didel?s energijos lazerio impulsus, o po to greitai atv?sinama ir sukiet?ja, kad susidaryt? suvirinimo siūl?. D?l labai trumpo impulso plo?io ir ma?o kar??io paveikto ploto suvirinimo proceso metu susidarantys terminiai ?tempiai ir deformacija taip pat yra ma?i, tod?l pager?ja suvirinimo kokyb? ir tikslumas.
Be to, nanosekundinio suvirinimo aparatai taip pat gali būti integruoti su kita automatizavimo ?ranga ir gamybos linijomis, siekiant automatizuoti suvirinimo gamyb?, pagerinti gamybos efektyvum? ir produkto kokyb?.
Nanosekundinio suvirinimo aparato proceso parametrai daugiausia apima ?iuos aspektus:
1. Impulso plotis: Nanosekundinio suvirinimo aparat? impulso plotis paprastai svyruoja nuo keli? nanosekund?i? iki de?im?i? nanosekund?i?. Kai impulso plotis yra ma?esnis nei 10 nanosekund?i?, galima pasiekti labai greit? ?kaitimo ir au?inimo proces?, taip i?vengiant kar??io paveikt? zon? (HAZ) susidarymo.
2. Impulso energija: tai rei?kia kiekvieno impulso perduodam? energijos kiek?. Skirting? med?iag? ir dyd?i? komponentams reikia pasirinkti skirtingas impuls? energijas, kad būt? pasiekti optimalūs suvirinimo rezultatai.
3. Litavimo jungties skersmuo: Litavimo jungties skersmuo rei?kia litavimo jungties dyd?, suformuot? per vien? impulso cikl?. Litavimo jungties skersmen? galima reguliuoti kontroliuojant impulso plot? ir impulso energij?.
Be to, nanosekundinio suvirinimo aparato parametrai taip pat apima lazerio bangos ilg?, lazerio i??jimo gali?, galios reguliavimo diapazon?, energijos svyravim?, da?nio reguliavimo diapazon? ir kt. Pavyzd?iui, kai kuri? nanosekundinio suvirinimo aparat? lazerio bangos ilgis yra 1064 nm, maksimali lazerio i??jimo galia yra 70 W, galios reguliavimo diapazonas yra 1–100 %, energijos svyravimas yra
Prakti?kai būtina pasirinkti tinkamus proceso parametrus, atsi?velgiant ? konkre?ius suvirinimo reikalavimus, med?iag? savybes ir naudojimo aplink?.
Produkto privalumai
? Didelis fotoelektrin?s konversijos efektyvumas, taupan?ios eksploatavimo i?laidas, individualiai pritaikomi ?viesos ?altiniai, ilgesn? garantija ir geresnis aptarnavimas;
? Labai integruotas moduli?kumas, didelis produkto mastelio keitimas ir paprastas automatizavimo diegimas;
? Integruota bendra konstrukcija, kompakti?ka ir ma?o dyd?io, u?imanti nedidel? plot?;
? Vieno langelio valdymas, energijos suvartojimo steb?jimas realiuoju laiku.
Taikymo sritys
Baterij? aus? suvirinimas, mobili?j? telefon? varikli? suvirinimas, anten? spyruokli? suvirinimas, kamer? varikli? suvirinimas ir kt.
Techniniai parametrai
| ?rangos modelis | FRZ-LWF100 | FRZ-LWF200 |
| Vidutin? i??jimo galia (W) | 100 W | 200 W |
| Lazerio ?altinis | Nanosekundinis pluo?to lazeris | |
| Lazerio re?imas | Vieno re?imo | Vieno re?imo |
| Au?inimo re?imas | Oro au?inimas | Oro au?inimas |
| Bangos ilgis | 1064 ± 20 nm | |
| Suvirinimo zona | 70 * 70 mm (neprivaloma) | |
| Pluo?to ilgis | 3 m (neprivaloma) | |
| Energijos svyravimo diapazonas | ≤3% | |
| Maitinimo ?altinis | Kintamoji srov? 220 V ± 10 %, 50/60 Hz | |
| Darbin? aplinkos temperatūra | 10–35 ℃ | |
| Darbin?s aplinkos dr?gm? | ≤70% | |
| Platforma | (Nebūtina) | |
| Valytuvas | (Nebūtina) | |
?rangos nuotraukos
